活動地點：

本館-中山國家畫廊(Chung Shan National Gallery)(2F)

活動日期：

2008-11-05 ~ 2008-11-26

演 出 者：

主辦單位：

聯 絡 人：

聯絡電話：

27712171*6100

是否收費：

N

備 註：

11 月5 日( 星期三) ∼ 11 月26 日( 星期三)

　　「科技」領域在台灣的產業界，扮演舉足輕重的重要性，是台灣邁向國際化的重要力量。而「水墨藝術」的悠久歷史傳統， 以及在台灣的多元發展，則是構成華人藝術的重要資產；兩者的跨界與聯結，開啟了產業的提升與藝術的新陳代謝，並帶給觀眾參與本質上的改變。因此，繼2006年第一屆台北當代水墨雙年展「時尚水墨」所引起的廣大迴響之後，為延續本展的成果與精神，第二屆台北當代水墨雙年展，擬以「科技水墨∼縱橫東西」為主軸，邀請各界人士一同參與創作，其中分為二大主軸，其一為當代水墨和文學；其二為數位水墨與錄像，來擴大水墨藝術與當代各領域的互動與交流。整體計畫以展覽為核心，透過海內外名家作品邀集展出、新秀獎徵件、論文發表與座談會以及教育推廣活動等所組成，共分為五大區塊。
當代水墨館――由劉國松、袁金塔等人聯合策展，邀請世界各國水墨名家齊聚一堂。
水墨文學館――由劉阿榮策展，邀請趙寧、廖輝英、管管、杜十三等文學家一同參與藝術創作。
水墨錄像館――由黃心健、翁銘邦共同策畫，邀請「工研院創意中心」（行氣〉等互動錄像作品參與展出。
水墨設計館――由曹筱玥、阮慶岳策展，邀請「中華民國平面設計協會」等知名設計師共同參與。
水墨新秀館――由陳坤德策展，徵集新一輩年輕水墨創作一同展出。

(德明畫廊)
開幕暨座談時間：11月8日(六) 下午14:30 於中山國家畫廊 北室